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MOS型与双极结型晶体管的比较：
集成电路按所使用的半导体材料，分为硅IC和化合物IC两大类。硅IC采用由单一元素构成的单晶，便于制作高纯度/大直径硅圆片（可采用拉制法、区熔法等），价格也比化合物IC便宜，物性稳定，利用热氧化可形成非常稳定的绝缘膜（SiO2），利用微细加工技术可制取精细化图形，制作工艺已相当成熟。缺点是与化合物IC相比，电子迁移率低。硅IC主要用于存储器、微处理器、逻辑元件等一般的大规模集成电路（LSI）、超大规模集成电路（ULSI）。
硅IC可以分为MOS型和双极结型晶体管，二者都既可以用自由电子为载流子，又可以用空穴为载流子。MOS中有不同类型，如以电子（负：negative）为载流子的“nMOS”，以空穴（正：positive）为载流子的“pMOS”，还有由双方组合（