靶材是材料来源，靶材制造和溅射镀膜环节是整个靶材产业链中的关键环节.金属靶材主要铝、铜、钛、镍、钨、钼、钽、铌等高纯度靶材，镍铁、钨钛等合金靶材.铜靶和钽靶通常配合起来使用.在中国，拥有冷喷涂和热喷涂生产技术和设备的企业很少.二氧化钛和钛合金涂料的应用将转化为民用涂料.热喷涂二氧化钛涂层；TiO2;旋转硅靶；旋转锌铝靶；靶材产业下游包括半导体、光伏电池、平板显示器等等.显示技术更迭发展，带来显示材料投资机会.
市场上常见的溅射靶材主要有平面靶材和旋转靶材，每一种靶材都有各自的优缺点.
平面钼(Mo)溅射靶材
对于平面靶材，其主要优点是结构简单，通用性强，膜层均匀性和重复性好.它的缺点是目标材料利用率低，一般只有20%左右；当辉光区(磁场分布区)的目标材料消耗到一定程度时，会形成条状坑，使目标变薄；当坑深达到一定值时，目标不能再使用.
旋转钼(Mo)溅射靶
与平面目标相比，旋转目标具有结构紧凑、目标利用率高等优点，这意味着旋转目标可以解决平面目标利用率低的问题.