氮化硅的应用
氧化铝陶瓷主要组成物为Al2O3,一般含量大于45%.氧化铝陶瓷具有各种优良的性能.耐高温，一般可要℃长期使用，耐腐蚀，高强度，其强度为普通陶瓷的2~3倍，高者可达5~6倍.其缺点是脆性大，不能接受突然的环境温度变化.用途极为广泛，可用作坩埚、发动机火花塞、高温耐火材料、热电偶套管、密封环等，也可作刀具和模具。
图片由杭州海合精密陶瓷提供氮化硅陶瓷物理特性
纳米技术氮化硅陶瓷主要表现出初始短裂痕拓展特点，随起止粉末状中较粗的-Si3N4粉末状成分的提升，纳米技术氮化硅的耐热震特性提升，即在纳米技术限度范畴内，很大晶体的Si3N4瓷器具备较高的耐热震性(2)Si3N4瓷器的高密度化水平危害其物理性能和耐热震特性，机构中显微镜孔眼的存有一定水平上有益于耐热震特性的改进(3)与基本氮化硅陶瓷对比，纳米技术氮化硅陶瓷的耐热震性略差。
氮化硅陶瓷化学特性氮化硅高溫空气氧化受溫度和氧分压危害依据氧分压的不一样，可分成可塑性空气氧化(PassiveOxida-tion)和特异性空气氧化(ActiveOxidation)两大类可塑性空气氧化转化成SiO2,试件品质提升；特异性空气氧化转化成SiO汽体，试件品质减少Si3N4(s)+3O2(g)=3SiO2(s)+2N2(g)(1)Si3N4(s)+5O2(g)=3SiO2(s)+4NO(g)(2)Si3N4(s)+3/2O2(g)=3SiO(g)+2N2(g)(3)可塑性空气氧化按(1)(2)化学方程开展，特异性空气氧化按化学方程(3)开展有专家学者根据试验证实，氮化硅高溫空气氧化，在SiO2层与基原材料中间存有Si2N2O层。
图片由杭州海合精密陶瓷提供氮化硅陶瓷制作工艺流程
制备工艺流程：卤化硅氨解法：卤化硅氨解法是指(1)硅的卤化物（SiCl4、SiBr等）或硅的氢卤化物（SiHCl3、SiH2Cl2、SiHI等）与氨气或者氮气发生化学气相反应，生成氮化硅；或者(2)在低温下先由硅的卤化物或氢卤化物生成硅亚胺，再由硅亚胺加热分解得到氮化硅两种反应方法的反应方程式如下所示：因为(1)中反应物是卤化硅和氨气，又是在气相中反应，所以通常可以制得高纯的α-Si3N4或无定形氮化硅粉末而(2)反应的关键是要制得纯的硅亚胺，通过硅亚胺的热分解可以直接制得很纯的α-Si3N4粉末；反应速度也比较快，至今已开始应用于生产非晶氮化硅薄膜如果作为合成氮化硅微晶的方法，此路径相对比较长，且需要低温条件。烧结工艺流程：氮化硅陶瓷以其出色的高溫抗压强度和延展性，耐热震性和有机化学可靠性而变成最有应用前景的高溫构造原材料之一但因为氮化硅的强共价键和低热扩散系数，没办法煅烧高密度化大家发觉许多氢氧化物如氧化镁、三氧化二铝及其稀土氧化物等，在煅烧全过程中可与氮化硅粉末状表层的二氧化硅反映转化成铝硅酸盐高效液相，进而可合理地推动氮化硅陶瓷的煅烧MgO-Y2O3复合型煅烧改性剂对氮化硅陶瓷过热蒸汽煅烧高密度化全过程和特性的危害，运用MgO-Y2O3复合型煅烧改性剂完成了氮化硅陶瓷的过热蒸汽煅烧有关试验表明选用过热蒸汽烧结法取得成功的制取了Si3N4-MgO-Y2O3结构陶瓷，氧化镁-氧化钇的组成是一种十分合理的氮化硅陶瓷的煅烧改性剂，过热蒸汽煅烧Si3N4-MgO-Y2O3结构陶瓷，密度达99%,抗拉强度达MPa,冲击韧性7.5CPa#m1/2氧化镁和氧化钇在煅烧全过程时会与氮化硅粉末状表层的二氧化硅反映转化成铝硅酸盐高效液相，制冷后，这种铝硅酸盐高效液相则转化成了夹层玻璃相留到煅烧体中，煅烧体中只能氮化硅相。
图片由杭州海合精密陶瓷提供密度：3.1-3.3，抗弯强度：-MPa，颜色：黑灰色，纯度：99.9%
制造商：海合精密，特性：耐腐蚀陶瓷，微观结构：单晶与玻璃相，形状：圆片
功能：其他，产品参数：φ95*20*15MM，价格：95元/件，产地：辽宁营口市
氮化硅陶瓷的加工激光加工是利用高能量密度的均匀激光束作为热源，在加工陶瓷材料表面局部点产生瞬时高温，局部点熔融或汽化而去除材料激光加工是一种无接触、无摩擦式加工技术，加工过程中不需模具，通过控制激光束在陶瓷材料表面的聚焦位置，实现对三维复杂形状材料的加工激光加工适合于在陶瓷材料上进行微钻孔、微切割，制作微结构目前已能加工直径为4~5μm、深径比达10以上的微孔通常所用激光源为CO和Nd:YAG激光。
氮化硅陶瓷会产生哪些危害？高溫使特异性免疫产生阻碍；人体水分、碳酸盐类等成份也因过多耗费而缺少，假如无法得到立即填补，会造成身体基础代谢产生混乱，造成中署轻则出現发烫、困乏、头昏、恶心想吐等病症；比较严重的，乃至伤着脑神经，出現头痛恶心、抽动，还会继续出現晕厥，甚至终身残废最情况严重，乃至导致身亡。